日前根据台湾方面报道,台积电研发副总裁孙元成(Jack Sun)在日本举行的一次研讨会上宣布,28nm低功耗生产技术已经研发成功,将在2010年初作为全代(full node)工艺为客户提供代工服务,并提供高性能和低功耗两种可选。据称与45nm工艺相比,28nm工艺中使用的低待机、低运行功耗氮硅氧化物能带来多25-40%的速度提升,同时功耗降低30-50%。
已知Intel在今年年底转入32nm,明年年底才直接进攻22nm,而IBM的28nm要到明年下半年才会试产。虽然台积电N年前的40nm到现在还未成熟,相对于这次的先声夺人,自然还是引起了不少商家的青睐,据称NVIDIA就已率先表示了极大的兴趣。